注册网站要多久,自媒体自助下单网站怎么做,近三天发生的重要新闻,快递网站模板2024北京国际光刻设备及光掩膜技术展览会 Beijing Photolithography Equipment and Mask Application Technology Exhibition2024 基本信息 时间#xff1a;2024年7月24-26日 地点#xff1a;北京国家会议中心 展会简介 微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力…2024北京国际光刻设备及光掩膜技术展览会 Beijing Photolithography Equipment and Mask Application Technology Exhibition2024 基本信息 时间2024年7月24-26日 地点北京国家会议中心 展会简介 微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。光刻技术从诞生以来,在半导体加工制造行业中,作为图形转移技术而广为应用。随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小以及器件功能的不断提高,半导体加工技术中最为关键的光刻技术和光刻工艺设备,必将发生显著的变化。 随着集成电路产业的发展高端芯片的集成度达到了数千乃至数亿晶体管推动芯片封装技术向更高密度、更高性能发展在传统的接近/接触式光刻机日趋无法满足高性能、高密度、低成本的先进封装工艺发展需求的情况下先进的大视场、大焦深、高精度投影光刻机逐步成为先进封装生产线的关键设备。“2024北京国际光刻设备及光掩膜应用技术展览会”将于7月24-26日在北京国家会议中心隆重举办欢迎广大相关单位参展、参观 展会亮点 收集最新的高质量销售资讯结识高质量买家并达成销售交易。 了解未来生产需求发展全球战略。 与全国代理、经销商构建销售网络。 通过与各地生产商和买家的合作来发掘新的商业机会。 加强公司品牌建设提高公司的行业知名度。 获得关于最新市场趋势、技术创新、行业最新发展动态以及的相关行业资讯。 为何参展 35家合作机构组团参观 形式多样的配套会议及活动涵盖组团参观、论坛、访谈 全方位海内外渠道营销线上与线下共同造势 超过300家行业媒体提供全天候一站式营销解决方案 稳固老客户开拓新市场发现新机遇 观众邀请 邀请全国、省、市、各相关科研单位电子、微电子、光电子、集成电路、半导体、微/纳电机系统、芯片制造、生物器件、纳米科技、平板显示、IC制造、光伏、航空航天、国防军工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太阳能、印刷、影像等制造业、大学、研究所、咨询机构和公共机构的专家代表等人员到会参观、洽谈。 日程安排 报到布展2024年07月22-23日 AM8:30-PM19:30 展出时间2024年07月24日 AM9:30-PM16:45 2024年07月25日 AM9:30-PM16:45 2024年07月26日 AM9:30-PM16:45 参展范围 ◆曝光光源、光学系统、电系统、机械系统和控制系统等 ◆光刻机、光刻技术、步进投影光刻机、扫描投影光刻机、纳米光刻技术、无掩模光刻技术、沉浸式光刻技术、准分子激光光刻技术、极紫外光刻机、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、STM光刻、纳米压印光刻技术、微光刻技术、电子束曝光机、离子束曝光、3D 打印、刻蚀机、光刻机零部件、光刻前处理材料、曝光系统、光刻-掩模无机芯片与加工系统、光源与光刻胶、光刻胶原材料、光刻胶涂覆与处理设备等 ◆光掩膜、铬版、干版凸版、液体凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜图形描绘设备、光掩模测试等 联系我们 联系人李先生 电 话136 3660 4883 咨询QQ/微信537402178 邮 箱sales1ufiexpo.com
